激光脉冲沉积法结晶Teflon镀层１采用248nm的紫外准分子激光辐射 使用粉末压制的PTFF和打磨过的块状PTFF作为靶材 在很高的沉积温度下 激光通过融化结晶PTFF将颗粒转移到热的衬底上 形成连续光滑的表面 打磨过的块状PTFF从 PTFF棒上切取PTFF粉末压制的PTFF压强为3.8×1ｍ2微粒为69m 粉末压制的PTFF需要在 275±10℃的条件下退火24h由粉末压制的PTFF沉积而成的薄膜厚度在相同的激光脉冲条件 par＝0.3mbar 激光器的能量密度 ＝4Jcm2下远超过由抛光的PTFF沉积而成的薄膜 薄膜在温度低于340℃沉积时 会形成有很多微粒和小孔的粗糙表面 在大于340℃沉积时 则会形成没有微粒的表面 并且牢固地附着在衬底上 通过 胶带拉脱 实验微粒不会掉落 这种方法生成的薄膜对非偏振光有很高的透明度 电阻率高于1012由打磨过的块状PTFF沉积而成的薄膜表面非常粗糙并且覆盖了许多微粒 在相同条件下沉积速率远远低于由粉末压制的PTFF薄膜较好地附着于衬底 但是凝聚力很差通过 胶带拉脱 实验中微粒会掉落 薄膜在高温沉积时厚度减小 这种方法产生的薄膜对可见光的透明度较低 电阻率低于由粉末压制的PTFF沉积而成的薄膜