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特氟龙薄膜

[导读]特氟龙近年来因其稳定的化学性质 极好的不粘连性和耐高温性 越来越多地被应用于各种领域 如何制备 涂覆和改性薄膜也成为众多研究的焦点 针对不同原材料选择不同的制备方式 根据不同的器件选择不同的涂覆方法 综述了多种成功的特氟龙薄膜涂覆方法 并比较了这些方法的优缺点 为科研工作者在后续的工作中针对特殊的应用需求选择合适的特氟龙涂覆方法提供一些参考

激光脉冲沉积法结晶Teflon镀层1采用248nm的紫外准分子激光辐射 使用粉末压制的PTFF和打磨过的块状PTFF作为靶材 在很高的沉积温度下 激光通过融化结晶PTFF将颗粒转移到热的衬底上 形成连续光滑的表面 打磨过的块状PTFF从 PTFF棒上切取PTFF粉末压制的PTFF压强为3.8×1m2微粒为69m 粉末压制的PTFF需要在 275±10℃的条件下退火24h由粉末压制的PTFF沉积而成的薄膜厚度在相同的激光脉冲条件 par=0.3mbar 激光器的能量密度 =4Jcm2下远超过由抛光的PTFF沉积而成的薄膜 薄膜在温度低于340℃沉积时 会形成有很多微粒和小孔的粗糙表面 在大于340℃沉积时 则会形成没有微粒的表面 并且牢固地附着在衬底上 通过 胶带拉脱 实验微粒不会掉落 这种方法生成的薄膜对非偏振光有很高的透明度 电阻率高于1012由打磨过的块状PTFF沉积而成的薄膜表面非常粗糙并且覆盖了许多微粒 在相同条件下沉积速率远远低于由粉末压制的PTFF薄膜较好地附着于衬底 但是凝聚力很差通过 胶带拉脱 实验中微粒会掉落 薄膜在高温沉积时厚度减小 这种方法产生的薄膜对可见光的透明度较低 电阻率低于由粉末压制的PTFF沉积而成的薄膜


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